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中國芯片新篇(二):跨越式進(jìn)擊,第三代半導(dǎo)體

科技深水區(qū) 2020/9/17 17:54:24 責(zé)編:汐元

公元 2020 年 9 月 4 日,一則“我國將把大力發(fā)展第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)寫入‘十四五’規(guī)劃”的消息引爆市場,引起第三代半導(dǎo)體概念股集體沖高漲停,場面十分壯觀。

暴漲逆襲之間,“第三代半導(dǎo)體”成了瘋狂刷屏的明星詞,人們驚呼下一個(gè)風(fēng)口來了。

巧合的是,華為消費(fèi)者業(yè)務(wù) CEO 余承東在 8 月 7 日接受采訪時(shí)也曾表示:

現(xiàn)在我們從第二代半導(dǎo)體進(jìn)入第三代半導(dǎo)體時(shí)代,希望在一個(gè)新的時(shí)代實(shí)現(xiàn)領(lǐng)先。在終端的多個(gè)器件上,華為都在投入。華為也帶動了一批中國企業(yè)公司的成長,包括射頻等等向高端制造業(yè)進(jìn)行跨越。

第三代半導(dǎo)體到底是什么?為什么會突然被炒上天?在中國芯片產(chǎn)業(yè)被美國強(qiáng)勢打壓下,第三代半導(dǎo)體又在扮演什么角色?

今天IT之家就和大家好好聊一聊。

一、第三代半導(dǎo)體是什么?

看到第三代半導(dǎo)體,你肯定會想第一代、第二代是什么。這里的“代際”,是根據(jù)半導(dǎo)體制造材料來劃分的。

在《兵進(jìn)光刻機(jī),中國芯片血勇突圍戰(zhàn)》一文中,IT之家曾介紹,芯片制造的第一步是從沙子里提煉出高純度的硅。

硅,就是制造半導(dǎo)體最早的材料之一,也是第一代半導(dǎo)體。

以下是三代半導(dǎo)體最主要的材料:

第一代半導(dǎo)體:硅、鍺;

第二代半導(dǎo)體:砷化鎵、磷化銦;

第三代半導(dǎo)體:氮化鎵、碳化硅。

半導(dǎo)體材料發(fā)展到第三代,肯定是因?yàn)榈?、碳化硅相比前兩代有?yōu)勢,才會被重用。那么它有什么優(yōu)勢呢?

IT之家搜索資料,發(fā)現(xiàn)答案是這樣的:

更寬的禁帶寬度、更高的擊穿電場、更高的熱導(dǎo)率、更高的電子飽和速率、更高的抗輻射能力……

每個(gè)字都認(rèn)得,但連起來就看不懂了。

所以接下來IT之家不妨就來給大伙翻譯翻譯。

不過這個(gè)解釋的過程可能會涉及一些理化方面的知識,稍微有一丟丟的深。大家如果不想看,也可以直接跳到本部分的第 3 小節(jié)。

1、半導(dǎo)體的工作原理

要理解這些,我們要從什么是半導(dǎo)體說起。

半導(dǎo)體,顧名思義,就是導(dǎo)電性在絕緣體和導(dǎo)體之間的物體。

導(dǎo)體能導(dǎo)電,意思就是能夠讓電流通過。而中學(xué)物理告訴我們,電流就是自由電子在電場力的作用下做定向運(yùn)動形成的。

所以,導(dǎo)體中必須有大量的自由電子。那么這些自由電子怎么來的呢?

我們知道,物質(zhì)是由分子構(gòu)成的,分子是由原子構(gòu)成的,原子是由原子核以及圍繞在周圍的電子構(gòu)成的。

原子核帶正電荷,電子帶負(fù)電荷,異性相吸,所以電子圍繞在原子核周圍不停地轉(zhuǎn)。

這原子核,就像古代富貴家族的大公子哥,特別帥,有一種獨(dú)特的吸引力,能吸引三妻四妾(電子)圍在他身邊。

妻妻妾妾嫁進(jìn)公子哥的家族后,那些住得和丈夫比較近的,天天耳鬢廝磨,感情深厚,自然不離不棄。

而和丈夫住得比較遠(yuǎn)的妾們,和公子的感情比較淡,空守寂寞,久而久之,自然就有一種擺脫家族婚姻束縛,追求自由愛情的沖動。

就好像那句著名的詩:一枝啥啥出墻來,大家懂的。

事實(shí)上,在她們面前,真的有一道墻,家族豪宅的圍墻,這道墻阻礙了她們對自由的向往。

對應(yīng)到物理學(xué)上,大家族豪宅內(nèi)的區(qū)域,叫做原子核周圍的“價(jià)帶”,而那道墻,叫做禁帶,墻外的區(qū)域,叫做導(dǎo)帶。

其中,禁帶是不能存在電子的,就好像有人想追求自由,她不可能騎在墻頭上光明正大地和隔壁的王公子約會,她只會想辦法穿過那道墻。

物質(zhì)也是如此,價(jià)帶邊緣的電子,更有一種擺脫原子核束縛,穿越禁帶,來到導(dǎo)帶,成為自由電子的趨向和可能。

換句話說,只要電子能夠越過禁帶,來到導(dǎo)帶,成為自由電子,那么物體就能導(dǎo)電

所以,禁帶就成了區(qū)分導(dǎo)體和絕緣體的關(guān)鍵

通常,導(dǎo)體的禁帶非常窄,甚至沒有,所以價(jià)帶的電子很容易來到導(dǎo)帶成為自由電子,因此導(dǎo)體是能導(dǎo)電的。

絕緣體的禁帶非常寬,價(jià)帶的電子怎么也越不過去,所以絕緣體是不導(dǎo)電的。

而半導(dǎo)體呢,它的禁帶寬度介于絕緣體和導(dǎo)體之間,價(jià)帶的電子是有機(jī)會來到導(dǎo)帶的,只是需要一些外部的能量。

這外部的能量,可以是陽光,也可以是其他,例如額外的電壓。

也就是說,給它施加一個(gè)電壓,那么價(jià)帶的電子就能越過禁帶,成為自由電子,半導(dǎo)體就導(dǎo)電了。

這個(gè)過程我們叫 “本征激發(fā)”。

當(dāng)然,關(guān)掉電壓,半導(dǎo)體又不導(dǎo)電了。

半導(dǎo)體從絕緣變成導(dǎo)體的時(shí)候,叫做擊穿,這時(shí)候?qū)?yīng)的電壓叫做擊穿電壓,形成的電場強(qiáng)度叫做擊穿場強(qiáng)。

所以,“更寬的禁帶寬度、更高的擊穿電場”,意思都是在說,第三代半導(dǎo)體能承受更高的電壓。

2、從半導(dǎo)體到晶體管

除了電壓,半導(dǎo)體能不能導(dǎo)電,其實(shí)還和其他因素有關(guān),例如摻雜程度。

怎么理解這個(gè)摻雜程度呢?又要翻開中學(xué)理化課本了。

我們用半導(dǎo)體最經(jīng)典的材料硅來舉例。硅元素有 14 個(gè)電子,按 2-8-4 分三層排列。

可是我們知道,原子最外層 8 個(gè)電子可以構(gòu)成穩(wěn)定狀態(tài)。這時(shí)硅就想了,我這最外層只有 4 個(gè)電子,要是能想辦法湊成 8 個(gè)電子多好啊!

方法還真有,那就是和別的原子共用。比如兩個(gè)硅原子碰到一起,就會說,你最外面有 4 個(gè)電子,我最外面也有 4 個(gè)電子,咱倆共用一下,不就都有 8 個(gè)電子了嗎?

所以,硅原子在一起,都是以這樣的狀態(tài)存在的:

了解這這一點(diǎn),下面就要舉一反三了。

如果我們在硅里摻雜一些磷原子會怎樣呢?磷的最外層有 5 個(gè)電子,當(dāng)它和硅原子共享完 4 個(gè)電子后,就會發(fā)現(xiàn)自己還剩下 1 個(gè)多余的電子,這個(gè)電子就成了自由電子。

這樣摻雜后,原來的硅就會變成攜帶自由電子的半導(dǎo)體,我們把它叫做 “N 型半導(dǎo)體”。

而如果我們摻雜的不是磷,而是硼呢?硼最外層有 3 個(gè)電子,所以它只能和硅共用 3 個(gè)電子,還差一個(gè)電子沒法共用,那也沒辦法,只能空在哪里,所以就形成了等價(jià)于正電荷的空穴。

這時(shí)候,硅就成了一種類似于帶正電荷自由電子的半導(dǎo)體,我們把它叫做 “P 型半導(dǎo)體”

注意,N 型半導(dǎo)體并不是只有自由電子,也有一些正電荷的空穴,只是這些空穴很少,是硅自己本征激發(fā)形成的。

同理,P 型半導(dǎo)體也有一些帶正電荷的自由電子,也是本征激發(fā)形成的。

一個(gè)帶有很多自由移動的電子(負(fù)電荷),一個(gè)帶有很多的空穴(相當(dāng)于正電荷),要是把 N 型半導(dǎo)體和 P 型半導(dǎo)體放一塊,那會怎么樣呢?

那還用說?那自由電子和空穴肯定就像對愛情渴慕已久的年輕男女,一見面就如狼似虎地糾纏在一起了唄。

不過,實(shí)際過程是這樣的:

當(dāng) N 型半導(dǎo)體和 P 型半導(dǎo)體在一起,距離最近的自由電子和空穴首先迫不及待地結(jié)合在一起;

然后距離比他們稍微遠(yuǎn)一些的自由電子和空穴也紛紛聚攏過來;

這些“情侶”太喜歡秀恩愛了,就在路中間抱了起來,結(jié)果,他們形成了一道“人墻”,把路給擋住了。

這就尷尬了,他們擋住了路,后面的“情侶”們就過不來了。

這時(shí)候,右邊的 N 型半導(dǎo)體中的一些自由電子因?yàn)楹涂昭ńY(jié)合,相當(dāng)于失去了一些電子,因此整體呈現(xiàn)正電;

左邊的 P 型半導(dǎo)體中的一些空穴因?yàn)楹妥杂呻娮咏Y(jié)合,相當(dāng)于失去了一些空穴,因此整體呈負(fù)電;

如此一來,兩邊就形成了一個(gè)電場,方向是從 N 型到 P 型,這個(gè)電場叫 “內(nèi)建電場”。

中學(xué)物理課本說道:電子受力方向和電場方向相反。

因此這個(gè)內(nèi)建電場形成后,N 區(qū)自由電子進(jìn)入電場就會被彈出來,就像撞了墻一樣,所以他們就到不了 P 區(qū)了。

不過呢,前面我們說了,P 區(qū)也是有少量自由電子的,他們的受力方向和電場方向是相同的,就可以在電場力的作用下,順利漂到 N 區(qū)。

這個(gè)過程叫做 “載流子漂移”,他們飄到 N 區(qū)的過程,代表這個(gè) PN 半導(dǎo)體可以通電,直到兩邊達(dá)到平衡。

而這個(gè)漂移運(yùn)動的快慢,人們用 “電子遷移率” 來表示。

注意,這些過程和上面“人墻”的形成是動態(tài)同步進(jìn)行的,人們把這種結(jié)構(gòu)叫做“PN 結(jié)”。

說了這么多,PN 結(jié)的這些特性有什么用呢?當(dāng)然有用了。

如果我們再 N 區(qū)施加負(fù)電壓,P 區(qū)施加正電壓,那么 PN 兩邊就會形成一個(gè)新的電場,反方向從 P 到 N。

這個(gè)新的電場會抵消內(nèi)建電場,內(nèi)建電場被抵消后,“人墻”就會慢慢變小,最后消失,兩邊的載流子就可以暢通無阻了,這個(gè) PN 半導(dǎo)體就可以通電;

而如果我們在 N 區(qū)施加的是正電,P 區(qū)施加的是負(fù)電,那么新的電場就會和內(nèi)建電場方向相同,“人墻”就會越來越寬,導(dǎo)致載流子再也無法漂移,半導(dǎo)體就斷電了。

正是基于這通操作,人們制造了晶體管。晶體管是芯片的最小單位。

晶體管是什么?其實(shí)就是很小很小的開關(guān),控制半導(dǎo)體通電和斷電,通電代表“1”, 斷電代表“0”,由此形成各種龐大復(fù)雜的二進(jìn)制運(yùn)算。

當(dāng)然,晶體管的具體結(jié)構(gòu)和知識要復(fù)雜得多,上面所說的知識基礎(chǔ)原理,至于關(guān)于晶體管的更多內(nèi)容,這里就不便深入了。

那么都是制造晶體管的原材料,第三代半導(dǎo)體比過去的硅這些先進(jìn)在哪?

“更寬的禁帶寬度”和“更高的擊穿電場”前面我們已經(jīng)解釋過了,更高的電子飽和速率,大家就可以理解為,用第三代半導(dǎo)體制造的晶體管,載流子漂移速度很高,他們的漂移速度高,晶體管完成通電和斷電的速度就更快,這意味著他們的頻率更高。

第三代半導(dǎo)體不僅電子飽和速率高,電子遷移率高,這意味著載流子遷移的時(shí)候基本沒什么阻礙,阻礙意味著什么,意味著功耗、發(fā)熱,所以第三代半導(dǎo)體的功耗、發(fā)熱也是很低的。

至于更高的抗輻射能力,就比較好理解了。輻射可能對半導(dǎo)體產(chǎn)生不良影響,例如改變摻雜的程度、改變自由電子的運(yùn)動,甚至引起半導(dǎo)體物理屬性的改變等,因此更高的抗輻射能力可以帶來更好的系統(tǒng)穩(wěn)定性。

3、第三代半導(dǎo)體的優(yōu)勢和應(yīng)用

上面說的是幫大家理解第三代半導(dǎo)體優(yōu)勢背后的原理。

如果大家不想看上面這些,IT之家也為大家總結(jié)了第三代半導(dǎo)體的主要優(yōu)勢,大家可以只記住這些:

  • 耐高溫;

  • 耐高壓;

  • 耐大電流;

  • 功率高;

  • 工作頻率高;

  • 功耗小,發(fā)熱低;

  • 抗輻射能力強(qiáng)。

就拿功率和頻率來說,第一代半導(dǎo)體材料的代表硅,功率在 100W 左右,但是頻率只有大約 3GHz;第二代的代表砷化鎵,功率不足 100W,但頻率卻能達(dá)到 100GHz。因此前兩代半導(dǎo)體材料更多是互為補(bǔ)充的關(guān)系。

而第三代半導(dǎo)體的代表氮化鎵和碳化硅,功率可以在 1000W 以上,頻率也可以接近 100GHz,優(yōu)勢非常明顯,因此未來有可能是取代前兩代半導(dǎo)體材料的存在。

不過,擺在氮化鎵和碳化硅普及面前的問題也有不少,比如單晶生長時(shí)間長、技術(shù)門檻高、成本高、良率低等,這些問題還有待產(chǎn)業(yè)鏈不斷去攻克。

第三代半導(dǎo)體的這些優(yōu)勢,很大程度上都得益于一點(diǎn):它們相比前兩代半導(dǎo)體具有更大的禁帶寬度。甚至可以說,三代半導(dǎo)體之間的主要區(qū)分指標(biāo)就是禁帶寬度。

因?yàn)榫哂猩厦孢@些優(yōu)勢,第三點(diǎn)半導(dǎo)體材料可以滿足現(xiàn)代電子科技對高溫、高壓、高功率、高頻以及高輻射等惡劣環(huán)境的要求,因此可以在航空、航天、光伏、汽車制造、通訊、智能電網(wǎng)等前沿行業(yè)中有大規(guī)模應(yīng)用。目前主要是制造功率半導(dǎo)體器件。

具體到氮化鎵和碳化硅各自的應(yīng)用,要先說一下芯片的基本結(jié)構(gòu),分為襯底、外延和器件結(jié)構(gòu)。

襯底就是芯片的底盤,外延就是襯底上的一層薄膜,器件結(jié)構(gòu)就是表面畫電路圖的地方。

碳化硅的熱導(dǎo)率高于氮化鎵,且單晶生長成本比氮化鎵低,所以目前碳化硅主要被用在第三代半導(dǎo)體芯片的襯底,或者在高壓高可靠領(lǐng)域做外延,而氮化鎵主要在高頻領(lǐng)域做外延。

例如最近流行的氮化鎵充電器,就是利用了氮化鎵高頻的屬性,將充電器內(nèi)部的元器件做小,才實(shí)現(xiàn)了高功率小體積。

氮化鎵由于禁帶寬度大、擊穿電場高、化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定和抗輻射能力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),經(jīng)常被用來制造高溫、高頻、大功率微波器件

例如軍工電子中的軍事通訊、電子干擾、雷達(dá)等領(lǐng)域,其他方面則如通訊基站中的射頻元件、功率器件等,能大大減小基站的質(zhì)量、體積。

而碳化硅則是極限功率器件的理想材料。

例如它有一個(gè)重要應(yīng)用是在新能源汽車中制造主驅(qū)逆變器、DC / DC 轉(zhuǎn)換器、充電系統(tǒng)中的車載充電機(jī)和充電樁等,在這些領(lǐng)域中未來將大面積取代硅,此外,碳化硅在光伏、風(fēng)電、高速列車等領(lǐng)域也有廣泛應(yīng)用。

總結(jié)起來,氮化鎵主要應(yīng)用于低壓和高頻領(lǐng)域,碳化硅主要應(yīng)用于中高壓領(lǐng)域。

二、中國第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀

和傳統(tǒng)的半導(dǎo)體一樣,第三代半導(dǎo)體的產(chǎn)業(yè)鏈也包括上游的材料和設(shè)備,中游的芯片設(shè)計(jì)、制造和封測,下游的應(yīng)用。不同在于,第三代半導(dǎo)體的區(qū)別主要在于材料,因此IT之家在講解時(shí)也更側(cè)重于從產(chǎn)業(yè)鏈上游層面來說明。

由于氮化鎵和碳化硅是第三代半導(dǎo)體的主要材料,因此這一部分我們以這兩種材料為線分開來講。

1、碳化硅

碳化硅的生產(chǎn)步驟包括單晶生長、外延層生長以及器件制造,分別對應(yīng)襯底、外延和器件??傮w來說,碳化硅產(chǎn)業(yè)目前主要處于國外企業(yè)壟斷的局面。

襯底方面,目前國際正在從 4 英寸向 6 英寸過渡,且已有 8 英寸導(dǎo)電型產(chǎn)品,而國內(nèi)仍然以 4 英寸為主。

目前國際上碳化硅襯底核心企業(yè)包括美國 DowCorning、德國 SiCrystal、美國 II-VI、日本昭和電工等,他們占據(jù)碳化硅襯底的主要產(chǎn)能。

國內(nèi)則以天科合達(dá)、山東天岳、同光晶體等公司為主,他們均能供應(yīng) 3 英寸~6 英寸的單晶襯底。

外延方面,外延片企業(yè)主要以美國的 DowCorning、II-VI、Cree,日本的羅姆、三菱電機(jī),德國的 Infineon 等為主。國內(nèi)瀚天天成、東莞天域已能提供 4 寸 / 6 寸的碳化硅外延片。

器件方面,國際上 600~1700V SiC SBD、MOSFET 已經(jīng)實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化,主流產(chǎn)品耐壓水平在 1200V 以下,核心企業(yè)為 Infineon、Cree、羅姆、意法半導(dǎo)體等。

國內(nèi)則主要有泰科天潤、深圳基本半導(dǎo)體、中電科 55 所、上海瞻芯電子、三安光電等,覆蓋碳化硅器件的設(shè)計(jì)、代工各個(gè)環(huán)節(jié)。其中泰科天潤已經(jīng)量產(chǎn) SiC SBD,產(chǎn)品涵蓋 600V / 5A~50A、1200V / 5A~50A 和 1700V / 10A 系列。

總體來說,全球碳化硅的產(chǎn)業(yè)格局還是以美國、歐洲、日本為主,特別是美國,全球 70%-80% 的碳化硅產(chǎn)量都來自美國。

中國在這個(gè)領(lǐng)域主要是后來者的姿態(tài),不過國內(nèi)碳化硅產(chǎn)業(yè)發(fā)展較快,并且產(chǎn)業(yè)鏈各個(gè)環(huán)節(jié)也比較完整,正在快速追趕國際領(lǐng)先的企業(yè),如果持之以恒加大發(fā)展,未來能夠自給的機(jī)會還是比較大的。

2、氮化鎵

氮化鎵和碳化硅的情況類似,目前產(chǎn)業(yè)也仍然被國外企業(yè)把持,國內(nèi)企業(yè)的發(fā)展相對薄弱,且主要集中在軍工方面。

和碳化硅一樣,氮化鎵也可以分為襯底、外延以及器件三個(gè)方面。

首先是襯底,目前國際上以 2~3 英寸為主,4 英寸較少,但也正在逐步商用。這個(gè)產(chǎn)業(yè)的市場主導(dǎo)是日本的住友電工,份額達(dá)到 90% 以上。國內(nèi)像蘇州納維科技公司和有北大背景的東莞市中鎵半導(dǎo)體科技公司,均已實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化。

外延方面,氮化鎵的外延片主要有四種:硅基氮化鎵、碳化硅基氮化鎵、藍(lán)寶石氮化鎵和氮化鎵基板的氮化鎵。

這些外延片目前主要是日本的 NTT-AT、比利時(shí)的 EpiGaN 、英國的 IQE 、臺灣嘉晶電子等在供應(yīng)。

國內(nèi)相關(guān)企業(yè)則主要是蘇州晶湛、蘇州能華和世紀(jì)金光,其中蘇州晶湛 2014 年就已研發(fā)出 8 英寸硅基外延片,目前 150mm 的硅基氮化鎵外延片的月產(chǎn)能達(dá) 1 萬片。

氮化鎵的器件分為射頻器件和電力電子器件。在器件的設(shè)計(jì)方面,主要有美國的 EPC、MACOM、Transphom、Navitas,德國的 Dialog 等公司,國內(nèi)有被中資收購的安譜?。ˋmpleon)等。

設(shè)計(jì)生產(chǎn)一體的企業(yè)則包括住友電工和 Cree ,他們的市場占有率均超過 30%,其他還有 Qorvo 和 MACOM;

而中國方面則有蘇州能訊、英諾賽科、江蘇能華等,其中蘇州能訊去年已經(jīng)建成 4 英寸氮化鎵芯片產(chǎn)線,設(shè)計(jì)產(chǎn)能為 17000 片 4 英寸氮化鎵晶圓。

負(fù)責(zé)代工的公司則以美國環(huán)宇通訊半導(dǎo)體(GCS)、穩(wěn)懋半導(dǎo)體、日本富士通、Cree、臺灣嘉晶電子、臺積電、歐洲聯(lián)合微波半導(dǎo)體公司(UMS)等為主導(dǎo),中國的三安集成和海威華芯也已取得了一定的市場成果。其中三安集成在 2018 年末的氮化鎵芯片產(chǎn)能可達(dá)到 100 片 / 月。

盡管總體來說我國在氮化鎵的上游材料、制造方面仍然落后于國際先進(jìn)水平,但是它的商業(yè)化進(jìn)程才剛剛起步,氮化鎵的市場需求將持續(xù)高速增加,留給中國的機(jī)會和時(shí)間也還是有的。

總結(jié)

首先我們需要確認(rèn),第三代半導(dǎo)體材料在未來半導(dǎo)體行業(yè)的地位將至關(guān)重要,理由如下:

1、第一第二代半導(dǎo)體瓶頸明顯,難以適應(yīng)新興產(chǎn)業(yè)的發(fā)展需求。第三代半導(dǎo)體材料具有取代前兩代半導(dǎo)體材料的潛質(zhì),成為未來半導(dǎo)體材料的主流。

2、5G 拉開萬物互聯(lián)的序幕,第三代半導(dǎo)體的核心應(yīng)用功率半導(dǎo)體將會有爆發(fā)式增長,前景光明。

3、摩爾定律見頂,除了先進(jìn)封裝技術(shù)外,底層半導(dǎo)體材料的突破,也是突破摩爾定律的重要道路。

而對于中國來說,第三代半導(dǎo)體相比前兩代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),機(jī)遇更大,趕超的機(jī)會也更大,原因如下:

1、中國是全球最大的半導(dǎo)體消費(fèi)市場,且自給率不足 20%,擁有很大的國產(chǎn)替代空間。

2、當(dāng)前第三代半導(dǎo)體主要應(yīng)用的功率半導(dǎo)體領(lǐng)域對先進(jìn)制程的要求并不高,這對于國內(nèi)產(chǎn)業(yè)鏈的完善是一個(gè)機(jī)會。

3、中國新基建和消費(fèi)電子市場需求龐大,將為第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的增長打開空間。

4、雖然目前中國在第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中的技術(shù)比較薄弱,但國內(nèi)廠商在第三代半導(dǎo)體有全產(chǎn)業(yè)鏈的布局,有一定的自主可控能力。

當(dāng)然,比上面這些更重要的是國家意志的推動。在美國限制措施越來越緊的背景下,先進(jìn)半導(dǎo)體材料已上升至國家戰(zhàn)略層面。國家在 2025 中國制造中提到,2025 要實(shí)現(xiàn)在 5G 通信、高效能源管理中的國產(chǎn)化率達(dá)到 50%;在新能源汽車、消費(fèi)電子中實(shí)現(xiàn)規(guī)模應(yīng)用。這些目標(biāo)背后離不開第三代半導(dǎo)體的打底。

回到本文開頭所說的,一條消息引起 A 股第三代半導(dǎo)體板塊一飛沖天,資本市場也許少不了噱頭和泡沫,但I(xiàn)T之家相信,中國制造業(yè)不斷升級的大方向是不會變的。這條路上,第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)無疑是一個(gè)時(shí)代紅利,我們必須把握住。

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