IT之家10月15日消息 據(jù)韓國(guó)時(shí)報(bào)報(bào)道，幾個(gè)月前世界頂級(jí)內(nèi)存芯片制造商三星表示，正致力于開發(fā)極紫外光 (EUV)掃描技術(shù)，現(xiàn)在三星電子副會(huì)長(zhǎng)李在镕已經(jīng)證實(shí)，該公司正在與荷蘭 ASML 進(jìn)行談判，以進(jìn)一步推進(jìn)與 ASML 的業(yè)務(wù)關(guān)系。
“這段時(shí)間，我一直在探討如何發(fā)展有關(guān) EUV 的關(guān)系，”李在镕周三從荷蘭抵達(dá)金浦國(guó)際機(jī)場(chǎng)后告訴記者。李在镕在 COVID-19 檢測(cè)結(jié)果為陰性后回國(guó)。
三星電子首爾總部在一份聲明中表示，李在镕在為期一周的行程之余，在埃因霍溫總部會(huì)見了 ASML 的高層管理人員，包括 CEO Peter Wennink 和 CTO Martin van den Brink。
會(huì)談內(nèi)容涉及到雙方感興趣的各種問題，如 ASML 銷售 EUV 設(shè)備的計(jì)劃，以及雙方合作開發(fā)下一代存儲(chǔ)器芯片的具體內(nèi)容。聲明還稱，李在镕參觀了 EUV 設(shè)備的生產(chǎn)線。
IT之家獲悉，EUV 設(shè)備對(duì)于制造 7nm 節(jié)點(diǎn)級(jí)及以下的芯片至關(guān)重要。雖然有采用老式深紫外 (DUV)掃描技術(shù)的多重疊加圖案迭代的替代性制造方法，以縮小圖案尺寸，但 EUV 技術(shù)在更好的良品率 (缺陷率)方面具有優(yōu)勢(shì)。ASML 對(duì)該技術(shù)在知識(shí)產(chǎn)權(quán)和成本方面都有很高的信任度。
在日本將韓國(guó)從最值得信賴的商業(yè)伙伴名單中除名后，韓國(guó)政府鼓勵(lì)三星和該國(guó)的其他頂級(jí)制造商進(jìn)行投資，以減少其關(guān)鍵工業(yè)材料對(duì)從日本進(jìn)口的依賴。當(dāng)韓國(guó)總統(tǒng)參觀了三星在省城華城建設(shè)的新內(nèi)存芯片生產(chǎn)線時(shí)（將使用 EUV 技術(shù)），李在镕表示，這一決定是該公司更好地為未來做準(zhǔn)備的戰(zhàn)略的一部分。
在對(duì)基于邏輯和定制的存儲(chǔ)器半導(dǎo)體的需求不斷增長(zhǎng)，由于中國(guó)公司的崛起傳統(tǒng)的存儲(chǔ)器芯片市場(chǎng)飽和的情況下，三星一直在與 ASML 分享其 EUV 技術(shù)知識(shí)。EUV 設(shè)備仍然價(jià)格昂貴，因?yàn)槊總€(gè)系統(tǒng)的工具造價(jià)在 3500 萬美元以上。這家韓國(guó)公司還要與其主要系統(tǒng)芯片競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手臺(tái)積電爭(zhēng)奪激烈的芯片代工。
三星計(jì)劃在其華城工廠生產(chǎn)基于 EUV 的 5nm 以下超薄芯片。
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