臺積電贏過三星，占據(jù)全球 EUV 光刻機大多數(shù)份額， ASML 獨家生產(chǎn)

5 月 11 日消息，據(jù)國外媒體報道，三星似乎在半導體競賽中輸給了臺積電，在半導體工藝進入 7nm 節(jié)點之后，EUV 光刻機成了關鍵裝備，現(xiàn)在只有 ASML 一家能夠生產(chǎn) EUV 光刻機。

其主要客戶只有三家，分別是臺積電、Intel 和三星。供不應求使得 EUV 光刻機也成為三家廠商爭奪的焦點，不過 Intel 的 7nm 工藝要到 2022 年，所以現(xiàn)在有 EUV 生產(chǎn)線的主要是臺積電、三星兩家。

然而臺積電的 EUV 光刻機數(shù)量遙遙領先，據(jù)統(tǒng)計，ASML 近年來一共量產(chǎn)了 100 臺左右的 EUV 光刻機，其中供應給臺積電的就有 70 臺，占了絕大多數(shù)份額。

2021 年第一季度末，臺積電的代工制造市場份額比 2019 年第一季度增加了 8 個百分點。達到 56% ，超過了三星，其同一季度市場份額下降了 1% 。但與臺積電在 EUV 光刻機上的差距并非資本投資決定的，而是臺積電已經(jīng)獲得了包括蘋果和 AMD 在內(nèi)的主要美國客戶。

另外，三星也由于其他一些原因遭受了挫折，比如它在得克薩斯州的工廠因為惡劣的天氣條件而暫時關閉，以及美國公司似乎由于臺美關系而偏愛臺積電。據(jù)報道，一些需要半導體代工廠的美國 Fabless (無晶圓廠) 越來越不愿意與三星簽署長期協(xié)議，因為韓國與中國和美國都保持著雙向外交，因此供應鏈受到政治事件干擾的風險更大。

為此臺積電無疑會利用這一優(yōu)勢進一步擴大它與競爭對手之間的技術差距。與此同時，臺積電希望在 2023 年前投入 1000 億美元，以解決半導體短缺問題，而三星正試圖通過加快建設 P3 工廠來解決這一問題。

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