IT之家 6 月 5 日消息 天風(fēng)證券于 5 月 31 日公布了光刻膠行業(yè)研究報告。報告指出，光刻膠被稱為半導(dǎo)體材料皇冠上的明珠，目前主要被日本、韓國和歐美國家壟斷，特別是 ArF 浸潤式（28nm 及以下）以及 EUV 等關(guān)鍵節(jié)點所使用的光刻膠。目前行業(yè)代表企業(yè)有陶氏杜邦、 富士膠片、巴斯夫、信越化學(xué)和強(qiáng)力新材等公司，其中所在地位于日本的企業(yè)有 49%。
報告顯示，光刻膠領(lǐng)域全球市場規(guī)模近百億美元，最高端的 IC 光刻膠預(yù)計 2020 年全球市場規(guī)模為 16 億美元。我國的光刻膠產(chǎn)業(yè)在難度相對較低的 PCB 領(lǐng)域，國產(chǎn)化率約為 50%，但是在 IC 和 FPD 領(lǐng)域國產(chǎn)化率僅為 5%，供需不匹配，亟需國產(chǎn)化。
報告顯示，2020 年來受到中美貿(mào)易摩擦、新冠疫情等因素影響，近期 KrF 光刻膠供應(yīng)受限，影響到了我國的芯片加工，因此自主研發(fā) KrF / ArF 光刻膠來使得全產(chǎn)業(yè)鏈自主可控十分關(guān)鍵。
IT之家了解到，天風(fēng)證券還看好多家國內(nèi)光刻膠企業(yè)，包括雅克科技、華懋科技、彤程新材、南大光電等。我國低端光刻膠領(lǐng)域基本實現(xiàn)國產(chǎn)化，但是在芯片用 EUV 等中高端產(chǎn)品上，仍處于起步階段，與日本企業(yè)有較大差距。光刻膠的崛起有望帶動國產(chǎn)光刻機(jī)的進(jìn)步，實現(xiàn)協(xié)同發(fā)展。
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