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中微公司首臺 8 英寸 CCP 刻蝕機 Primo AD-RIE 200 順利付運

2021/6/15 16:57:27 來源:IT之家 作者:騎士 責編:騎士

IT之家 6 月 15 日消息 今天,中微半導體設備(上海)股份有限公司(簡稱“中微公司”)首臺 8 英寸甚高頻去耦合反應離子(CCP)刻蝕設備 Primo AD-RIE 200 順利付運客戶生產(chǎn)線。

IT之家獲悉,Primo AD-RIE 200 是中微公司自主研發(fā)的新一代 8 英寸甚高頻去耦合反應離子(CCP)刻蝕設備?;谝驯粯I(yè)界廣泛認可的 12 英寸 CCP 刻蝕設備的成熟工藝與特性,Primo AD-RIE 200 在技術創(chuàng)新和生產(chǎn)效率方面都有了進一步提升,能夠滿足不同客戶 8 英寸晶圓的加工需求。

為提高生產(chǎn)效率,Primo AD-RIE 200 刻蝕設備可靈活配置多達三個雙反應臺反應腔(即六個反應臺)。此外,Primo AD-RIE 200 提供了可升級至 12 英寸刻蝕設備系統(tǒng)的靈活解決方案,以滿足客戶生產(chǎn)線未來可能擴產(chǎn)的需求。

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關鍵詞:中微刻蝕機

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