IT之家 7 月 27 日消息 作為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠，光刻機(jī)代表著人類文明的智慧結(jié)晶?，F(xiàn)在，為了讓更多人深入了解光刻機(jī)，ASML 專門打造了一座“追光實(shí)驗(yàn)室”等你來體驗(yàn)。
IT之家獲悉，在 ASML 這個(gè)特殊的實(shí)驗(yàn)室里面，你不僅可以沉浸式地了解光刻機(jī)內(nèi)部的工作原理，還有豐富的 AR 互動(dòng)深入了解光刻機(jī)的內(nèi)部及其背后的技術(shù)原理，體驗(yàn)不斷探索極限的科技魅力。
追光實(shí)驗(yàn)室
不設(shè)限 敢追光
7 月 28 日-7 月 30 日
上海市浦東新區(qū)金科路 2889 弄長(zhǎng)泰廣場(chǎng)（金科路與祖沖之路交岔口）
IT之家獲悉，7 月 28 日中午 12 點(diǎn)起，ASML 的“追光實(shí)驗(yàn)室”將正式對(duì)外開放，快來挑戰(zhàn)所有關(guān)卡，領(lǐng)取你的專屬打卡。
在這里，你可以通過 AR 技術(shù)進(jìn)入 ASML 光刻機(jī)的內(nèi)部，探索光源走過的每一個(gè)步驟，領(lǐng)略 ASML 是如何挑戰(zhàn)瑞利判據(jù)，和摩爾定律賽跑，實(shí)現(xiàn)更小的線寬，在納米世界里做極限的攀登者。
浸潤(rùn)式光刻
當(dāng)傳統(tǒng)的干式光刻機(jī)日趨極限，線寬如何繼續(xù)縮小成為當(dāng)時(shí)業(yè)內(nèi)擔(dān)憂的發(fā)展瓶頸。ASML 成功地推出了浸潤(rùn)式光刻機(jī)，用折射率大于 1 的水作為媒介，實(shí)現(xiàn)物鏡數(shù)值孔徑的增大，幫助最小分辨率得到提升，開辟了半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)的新世界。
這里有一個(gè)互動(dòng)小游戲，讓你可以由淺入深地了解“浸潤(rùn)式技術(shù)”的發(fā)展軌跡和背后用到的光學(xué)原理。
雙晶圓工作臺(tái)
晶圓在進(jìn)入光刻流程前要先進(jìn)行測(cè)量和對(duì)準(zhǔn)，此前的光刻機(jī)只有一個(gè)工作臺(tái)，測(cè)量、對(duì)準(zhǔn)、光刻等所有流程都在這一個(gè)工作臺(tái)上完成。而 ASML 推出的雙工作臺(tái)系統(tǒng)（TWINSCAN system），即一個(gè)工作臺(tái)在給晶圓進(jìn)行曝光的同時(shí)，另一工作臺(tái)可對(duì)下一片需曝光的晶圓進(jìn)行測(cè)量，實(shí)現(xiàn)測(cè)量和曝光的無縫銜接，極大地提高了生產(chǎn)效率。
在這一環(huán)節(jié)，你可以通過第二個(gè)互動(dòng)游戲與 TWINSCAN 來場(chǎng)比試。
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