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被全方位芯片制裁后,俄羅斯決定從頭開造光刻機(jī)

量子位 2022/4/11 16:04:40 責(zé)編:遠(yuǎn)洋

被美國全方位芯片制裁后,俄羅斯竟然要開造先進(jìn)制程光刻機(jī)了?!

是的,就是那個芯片制造中最最最核心的設(shè)備(甚至沒有之一),全球僅一家公司 ASML 有能力生產(chǎn)最先進(jìn) EUV 級別,一臺能賣好幾億元、核心技術(shù)被美國壟斷的光刻機(jī)。

而且,這次俄羅斯的計劃,看起來有點像那么回事 —— 有人、有錢、有目標(biāo)。

人,項目由有著蘇聯(lián)硅谷中心之稱、以微電子專業(yè)見長的俄羅斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)承接。

錢,首期投資 6.7 億盧布資金。

目標(biāo),挑戰(zhàn)當(dāng)前最先進(jìn)的 EUV(極紫外)級別。

△ 只能看懂一個 28nm

但即便如此,因為制造光刻機(jī)登天之難、以及俄羅斯的資源儲備,網(wǎng)友們對這個消息并不太信:確定不是個玩笑?!

巧的是,就在這消息放出前一天,俄羅斯最大芯片制造商 Mikron 被美國制裁。更早之前,俄羅斯為數(shù)不多的其他幾家芯片廠也已經(jīng)全方位被制裁。

所以現(xiàn)在的俄羅斯芯片,到底什么水平?真的能有底氣搞出先進(jìn)制程光刻機(jī)嗎?

無掩膜 X 射線光刻機(jī)?

我們先來看看計劃本身的難度如何。

據(jù)俄媒報道,俄羅斯工貿(mào)部委托 MIET 開發(fā)“一種無掩膜 X 射線光刻機(jī)”,跟日常我們提到的 EUV 光刻機(jī)還有點不同。

首先的不同在于光源的選擇。一種是極紫外光線,波長在 13.5nm;而 X 射線波長介于 0.01nm 到 10nm 之間。

按照現(xiàn)有的常見思路,光刻機(jī)是特定波長的光透過用來放大的掩膜,再通過透鏡的縮小,將集成電路圖精確“投影”在硅片上。

為了精確“投影”,光刻機(jī)需要實現(xiàn)極高的曝光分辨率,以及極高的重復(fù)定位精度。前者最有效的方式之一,就是改變光源的波長。

根據(jù)光學(xué)上的瑞利判據(jù) (Rayleigh Criterion),一個光學(xué)系統(tǒng)能夠分辨的尺寸正比于光的波長。

因此,理論上以及從光刻機(jī)歷來發(fā)展(波長變得越來越短)來看,X 射線光刻機(jī)顯然要比 EUV 光刻機(jī)更好更先進(jìn)。

但因為它的穿透性太強(qiáng),用普通透鏡無法進(jìn)行放大和縮小,因而現(xiàn)階段無法實現(xiàn)投影光刻。

當(dāng)前應(yīng)用更多是在于直寫光刻,這也是本次俄羅斯計劃的選擇 —— 無掩膜。這種方式其實很早就有了,就是直接用強(qiáng)激光束將所需電路一點點刻出來。這個效率著實有點低,要想刻出納米級集成電路,不知要等到猴年馬月。

至于以 EUV 為代表的投影光刻,他們認(rèn)為成本高昂和工藝復(fù)雜,僅在量產(chǎn)方面具有競爭力,因此只適用于英特爾、三星、臺積電等這種少數(shù)的全球企業(yè)。

△ 帶有 X 射線反射系數(shù)控制的無掩模 X 射線光刻安裝方案

這樣看來,無掩膜光刻本身并不難,難就難在 X 射線工藝以及效率的提升上。但當(dāng)前全球尚且還沒有任何一家機(jī)構(gòu)能夠解決這個問題。這也是他們提出這項計劃的原因。

按照計劃,他們將完成對主要技術(shù)解決方案的驗證 —— 基于動態(tài)掩模模型的制造和兩項控制實驗研究。最早于今年 11 月開發(fā)動態(tài)掩膜的技術(shù)和模型,以及原型光刻機(jī)的技術(shù)規(guī)范和可行性研究,工藝要達(dá)到 28nm 及以上。

△ 帶有 X 射線透射率控制的無掩模 X 射線光刻安裝方案

除此之外,官方?jīng)]有透露該計劃的更多細(xì)節(jié)。

“是全世界都在幫荷蘭 ASML”

看完了計劃本身,也就多少能理解為什么更多人依然疑問滿滿:俄羅斯造光刻機(jī),這事兒到底靠譜嗎?

畢竟俄羅斯有很多高科技,總是雷聲大雨點小……

不過也有人表示,俄羅斯的黑科技點不亮,難點在于缺錢、缺工業(yè)基礎(chǔ),理論方面還真的不一定落后。

這次光刻機(jī)研發(fā)計劃,其相關(guān)研究最早能追溯到上世紀(jì) 80 年代。當(dāng)時他們就已經(jīng)在研究制造光源了。

1984 年,澤列諾格勒科學(xué)中心受到政府指派,開始研發(fā)同步輻射加速器。這個研究所,來頭可不小。它后來被并入大名鼎鼎的庫爾恰托夫研究所,蘇聯(lián)第一顆原子彈、第一顆氫彈、歐洲第一座原子反應(yīng)堆、世界上第一作原子能發(fā)電站,都是從這個研究所走出來的。

但好景不長,這臺加速器的研究在開展 4 年后就暫時被中止,直到 2002 年才再次試運行。

現(xiàn)在,俄羅斯打算基于這些技術(shù)積累,圍繞這臺加速器專門建立一個技術(shù)中心,并預(yù)計在 2023 年正式投入使用。

至于無掩膜光刻,他們一開始其實并沒有選擇這一路徑,甚至還一度與 ASML 平齊。早在 2010 年,ASML 出貨第一臺預(yù)生產(chǎn)的 EUV 光刻機(jī)時,俄羅斯一個物理研究所 IPM(RAS)也在開發(fā) EUV 的系統(tǒng)及元件,以及裝置原型的搭建。

其中開發(fā)人員還提出了輻射源設(shè)計的原始解決方案,部分還應(yīng)用到了 ASML 光刻機(jī)上。然而,這個項目在布局階段就結(jié)束了。

RAS 首席研究員、蘇聯(lián)國家獎獲得者、多層 X 射線光學(xué)系主任 Salashchenko Nikolay 透露了原因:

一個國家無法單獨拉動這項工作。而全世界都在幫助荷蘭(ASML 在荷蘭) 。

于是,他們就開始尋找其他路徑,在無掩膜式光刻機(jī)上迭代工藝就是其中一種。之所以讓 MIET 承接,是因為此前 MIET 跟一些機(jī)構(gòu)合作中,在無掩膜 EUV 光刻機(jī)上有過研究進(jìn)展。

2002 年,MIET 中主要從事納米電子器件研究的研究中心成立。研究領(lǐng)域覆蓋 X 射線器件、微機(jī)電系統(tǒng)和納機(jī)電系統(tǒng) —— 這些技術(shù)都與研發(fā)光刻機(jī)密切相關(guān)。并且已經(jīng)開展了部分研究,比如“基于微聚焦 X 射線管列陣的軟 X 射線源研制,適用于 10nm 無掩膜光刻機(jī)”,就是其中之一。

這項研究由 RAS 微觀結(jié)構(gòu)物理研究所的 Nikolay Chkhalo 教授牽頭。他目前是該研究所的實驗室主任,發(fā)表論文 200 多篇,主要研究領(lǐng)域為 X 射線光學(xué)、光學(xué)干涉測量等。

綜上可見,從理論基礎(chǔ)這一角度來看,俄羅斯搞光刻機(jī)這事兒也不能說完全不靠譜。不過值得一提的是,在俄媒最近的報道中也直言,光刻機(jī)計劃晚了 15 年。如果這一計劃在 15 年前啟動,或許俄羅斯現(xiàn)在不會面臨如此大的微電子技術(shù)威脅了。

最大芯片制造商只能做公交卡芯片

值得注意的是,就在這消息大范圍傳開的前夕,美國財政部宣布凍結(jié)俄羅斯 21 家實體企業(yè)、13 個人的在美資產(chǎn)。其中一家芯片廠公司進(jìn)入大家的視野。

Mikron,俄羅斯最大的芯片制造商、微電子制造商和出口商。而這也就意味著,俄羅斯芯片廠目前幾乎已被全線制裁。

因此現(xiàn)在宣布這項光刻機(jī)計劃,一方面是給俄羅斯國內(nèi)注入一場強(qiáng)心劑。另一方面,從現(xiàn)有的俄羅斯芯片水平來看,更有迫在眉睫之勢。

以 Mikron 為例,就可見一斑。從官網(wǎng)給出的產(chǎn)品目錄中可以看到,該公司可實現(xiàn)最高 65nm 工藝,主營銀行卡、公交卡之類的 RFID 以及電源管理芯片。

還創(chuàng)下了不少個第一:180/90/65nm 工藝第一制造商、用于身份證件的芯片模塊第一制造商、第一出口商,占俄羅斯微電子產(chǎn)品出口的 54%。

這家公司的歷史,可以追溯到前蘇聯(lián) —— 上個世紀(jì)六十年的分子電子研究所(NIME)。

當(dāng)時,微電子技術(shù)并在熱火朝天的發(fā)展。蘇聯(lián)國家技術(shù)委員會意識到建設(shè)微電子產(chǎn)業(yè)的必要性,開始大舉組織研究所和工廠。

NIME 就是其中之一。不到兩年時間(1966 年),在實驗車間生產(chǎn)的微電路產(chǎn)量就達(dá)到了 10 萬片。隨后在第二年,依照政府命令,Mikron 工廠從研究所中脫胎出來,致力于生產(chǎn)集成電路。

當(dāng)時諸多技術(shù)均屬于國內(nèi)首創(chuàng),比如砷化鎵微電路平面技術(shù)、發(fā)射極耦合邏輯的 IC 晶體、大規(guī)模使用的數(shù)值和模擬集成電路……

1970 年,Mikron 已經(jīng)為各個行業(yè)制造了超 350 萬個微電路供應(yīng),之后還陸續(xù)用在國防、超級計算機(jī)等領(lǐng)域。

在整個半導(dǎo)體行業(yè)中,蘇聯(lián)的微電子技術(shù)在全球排名第三,僅次于美國和日本。可以說,這時候的 Mikron 乘著時代之風(fēng)快速前進(jìn)。

不過,這種勢頭很快就因為蘇聯(lián)解體戛然而止 —— 幾乎所有的蘇聯(lián)計算機(jī)制造商都停止了運營,只有少數(shù)公司通過外國組件 / 技術(shù)轉(zhuǎn)讓得以幸存。

Mikron 就是其中一個。

2006 年,Mikron 開始引入海外技術(shù) —— 意法半導(dǎo)體技術(shù)轉(zhuǎn)讓,使其具備生產(chǎn) 180nm 芯片的能力。并于 2007 年開始生產(chǎn) 180nmEEPROM 的集成電路。

隨即,Mikron 就開始生產(chǎn)接觸式智能卡的芯片模塊,很快就掌握了 RFID 交通卡的全流程生產(chǎn),并開始為莫斯科地鐵站供應(yīng)。同年,它還開始為電信行業(yè)生產(chǎn) SIM 卡。

或許是嘗到了甜頭,Mikron 再度與意法半導(dǎo)體展開技術(shù)轉(zhuǎn)讓合作。據(jù)當(dāng)時《半導(dǎo)體國際》報道,公司有意每年更新一代工藝,計劃于 2008 年和 2009 年分別推出 130nm 和 90nm 的工藝。

不過據(jù)官網(wǎng)記載,Mikron 僅在 2009 年實現(xiàn)了在 200 毫米晶圓上生產(chǎn)設(shè)計 90nm 工藝的集成電路。在 2012 年才正式啟動 90nm 微電子產(chǎn)品的生產(chǎn)。

自此,俄羅斯成為全球第八個擁有該技術(shù)的國家。相較于西方,已經(jīng)遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后了。

這時候,俄政府開始意識到了微電子產(chǎn)業(yè)的重要性。

先是制定了一眾產(chǎn)業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略《2013-2025 年電子工業(yè)發(fā)展規(guī)劃》和《國防工業(yè)綜合體發(fā)展規(guī)劃》等,還積極采取一系列舉措,比如盡可能使用國產(chǎn)電子產(chǎn)品,開發(fā) CPU 民用和軍用兩條線等。

Mikron 也相應(yīng)更改了路線,開始致力于自主研發(fā) 180-90nm 國產(chǎn)技術(shù)和獨特產(chǎn)品,并創(chuàng)造新技術(shù),包括 65nm-45nm 水平。

2014 年,美國經(jīng)濟(jì)制裁(包括對敏感技術(shù)行業(yè)的打擊)讓原本脆弱的俄羅斯芯片制造雪上加霜。

即便在 2015 年,Mikron 還勉強(qiáng)完成了 65nm 工藝的開發(fā)。但之后就再也沒有傳來工藝制程迭代的音訊。

如今從規(guī)模上看,Mikron 業(yè)務(wù)輻射全球,作為俄羅斯最大芯片制造廠確實不假。

不過能做的產(chǎn)品,早已定型 —— 運輸及門禁 RFID、物聯(lián)網(wǎng)數(shù)據(jù)保護(hù)微控制器、智能水表等。

俄羅斯芯片廠幾乎已被全線制裁

前文提到,俄羅斯芯片制造商們,已經(jīng)被美國制裁得差不多了。不僅是最大芯片制造商 Mikron,另一家制造商 Angstrem-T 甚至已經(jīng)破產(chǎn)了一次。還有設(shè)計廠商 Baikal Electronics、MCST 等等都被制裁折騰了個夠嗆,在“實體名單”里進(jìn)進(jìn)出出……

由這些公司構(gòu)建起的俄羅斯半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)現(xiàn)如今究竟怎么個水平,又處于何種境況,我們也借此機(jī)會展開看看。

Baikal Electronics

首先來看看號稱是俄羅斯技術(shù)最先進(jìn)的芯片設(shè)計廠商 ——Baikal Electronics。

在最新一輪制裁名單中,其母公司 T-Platforms 赫然在列。

Baikal Electronics 能達(dá)到的制程為 28nm,它起初基于 MIPS 架構(gòu),這兩年轉(zhuǎn)向 ARM,支持運行俄國產(chǎn)操作系統(tǒng) Astra Linux。

其最近發(fā)布的處理器為 Baikal-S,擁有 48 個核心,基準(zhǔn)頻率 2.0GHz,最高加速 2.5GHz,熱設(shè)計功耗為 120W,同時還整合封裝了一顆自研的 RISC-V 架構(gòu)協(xié)處理器。

而除了母公司被制裁,Baikal Electronics 還要面臨芯片無法出貨的問題。

一直以來,Baikal Electronics 的芯片都是由臺積電代工。

在美國發(fā)布最新一輪制裁名單前,臺積電方面已經(jīng)表示,將不再為俄羅斯公司生產(chǎn)芯片,首當(dāng)其沖的便是 Baikal Electronics。

Angstrem-T

同樣跟 Mikron 有著悠久歷史的芯片制造廠 Angstrem-T,在 2017 年就遭到過制裁,并受到重創(chuàng)。

當(dāng)時,Angstrem-T 能拿出的最高制程為 250nm。作為對比,這一年三星已經(jīng)在量產(chǎn) 7nm 芯片了。

因受到制裁影響,Angstrem-T 陷入債務(wù)危機(jī),于 2018 年被俄羅斯國家開發(fā)銀行 VEB.RF 收購;2019 年,正式宣告破產(chǎn)重組。

但就在去年,這家公司傳來一點起死回生的跡象。據(jù)報道稱,他們已高薪聘請十?dāng)?shù)位專家?guī)椭?Angstrem-T 重啟產(chǎn)線。而且還計劃從 AMD 采購設(shè)備,用來生產(chǎn) 130-90nm 的芯片。

MCST

最后介紹的是芯片設(shè)計廠商 MCST (莫斯科 SPARC 技術(shù)中心,Moscow Center for SPARC Technologies),成立于 1992 年,前身是列別捷夫精密機(jī)械與計算機(jī)工程研究所。

其旗下 Elbrus 處理器包含兩條產(chǎn)品線,一條面向民用,架構(gòu)基于 Elbrus-2000 架構(gòu) (俄羅斯版本 X86);另一條面向軍用,架構(gòu)基于 SPARC,同樣由臺積電代工。

目前產(chǎn)品能達(dá)到的最高制程工藝為 16nm。

但該系列芯片在實測中表現(xiàn)不佳,去年年底時,俄羅斯最大銀行 Sber 技術(shù)部門在測試 Elbrus-8C 后給出的評價是:

內(nèi)存不足、內(nèi)存速度慢、核心數(shù)量少、頻率低、完全不滿足需求。

已有 7 萬 IT 人員出走俄羅斯

最后再回到現(xiàn)在,截至 3 月 31 日,美方公開的最新制裁名單中,涉及 21 個實體企業(yè)、13 名個人。

當(dāng)天白宮方面還表示,未來幾天將會把 120 個俄羅斯和白俄羅斯實體加入名單,范圍將擴(kuò)大到航天航空、船舶和電子行業(yè)。

而從目前看來,第一波制裁造成的影響,已經(jīng)遠(yuǎn)遠(yuǎn)超出芯片產(chǎn)業(yè)。俄羅斯版谷歌 Yandex 就是代表之一。其旗下業(yè)務(wù)包括搜索引擎、云服務(wù)、網(wǎng)約車等等。

據(jù)報道,受到進(jìn)出口限制,Yandex 將會在未來 1-18 個月內(nèi)面臨服務(wù)器硬件短缺情況,自動駕駛業(yè)務(wù)也將遭受嚴(yán)重打擊。為此,它們正在尋求重組以降低被制裁風(fēng)險。

同時還在和俄羅斯境內(nèi)社交網(wǎng)絡(luò)最大運營商 VK 進(jìn)行談判,打算出售其新聞部門、Zen 社交平臺,或者剝離自動駕駛業(yè)務(wù)。

更為深入的影響,還體現(xiàn)在人才上。據(jù)報道,從 2 月底到現(xiàn)在,已經(jīng)有 7 萬名 IT 技術(shù)人員離開了俄羅斯。俄羅斯通訊協(xié)會方面也承認(rèn)了這一事實,并表示在 4 月時,離境的 IT 人員數(shù)量可能會達(dá)到 10 萬人。

不過俄羅斯官方方面也一直有所應(yīng)對。除了前文提到的投入重金研發(fā)光刻機(jī)外,最近路透社報道,俄羅斯正在轉(zhuǎn)向中國的微芯片制造商尋求供應(yīng),主要是為了解決其本土 MIR 支付系統(tǒng)相關(guān)的銀行卡需求。

參考鏈接:

[1]https://www.reuters.com/technology/russia-turns-china-microchips-in-demand-domestic-bank-cards-2022-04-05/

[2]https://www.datacenterdynamics.com/en/news/intel-and-amd-halt-chip-sales-to-russia-tsmc-joins-in-on-sanctions/

[3]https://www.bloomberg.com/news/articles/2022-03-30/russia-s-internet-giant-may-run-out-of-tech-it-needs-in-a-year

[4]https://en.wikipedia.org/wiki/Angstrem_(company))

[5]https://en.wikipedia.org/wiki/National_Research_University_of_Electronic_Technology

[6]http://ipmras.ru/en/structure/people/salashch

[7]https://www.zelenograd.ru/hitech/v-miete-razrabotayut-koncepciyu-bezmasochnogo-fotolitografa-dlya-vypuska-mikroshem/

[8]https://www.zelenograd.ru/hitech/v-zelenogradskom-nanocentre-startovala-razrabotka-otechestvennogo-fotolitograficheskogo-oborudovaniya/

[9]http://www.kkg.com.cn/shownews.asp?newsid=2955

[10]https://fanpusci.blog.caixin.com/archives/253286

[11]https://stimul.online/articles/science-and-technology/fotolitografiya-s-pyatnadtsatiletnim-opozdaniem/

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