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先進工藝過剩且耗電巨大,消息稱臺積電計劃年底關(guān)閉部分 EUV 光刻機

2022/9/1 15:25:54 來源:IT之家 作者:瀟公子 責(zé)編:瀟公子

IT之家 9 月 1 日消息,產(chǎn)業(yè)鏈消息人士 @手機晶片達人 在微博上表示,“由于先進制程產(chǎn)能利用率開始下滑,而且評估之后下滑時間會持續(xù)一段周期,臺積電計劃從年底開始,將部分 EUV 設(shè)備關(guān)機,以節(jié)省 EUV 設(shè)備巨大的耗電支出?!备鶕?jù)此前報告,EUV 光刻機生產(chǎn)一天需要 3 萬度電左右,一年耗電大約 1000 萬度。

IT之家獲悉,今年 7 月開始傳出消息,受消費電子市場需求低迷影響,不少芯片廠商遭客戶砍單,甚至連臺積電亦難以幸免,并稱不少芯片價格頻頻跳水,有的芯片價格下跌 8 成,有的芯片價格從 200 元降至 21.5 元。此前“缺芯”潮席卷全球,許多芯片廠商為滿足客戶需求并且快速搶占市場而大幅擴產(chǎn)。但今年以來,消費電子市場需求明顯下滑,導(dǎo)致相關(guān)芯片供過于求,出現(xiàn)砍單降價、廠商取消擴產(chǎn)計劃等現(xiàn)象。

據(jù)報道,臺積電目前擁有大約 80 臺 EUV 光刻機,主要用于 7nm、5nm、4nm 等先進工藝,今年 9 月份臺積電還將計劃量產(chǎn) 3nm 工藝,都需要 EUV 光刻機,不過 3nm 工藝的首批訂單客戶可能僅剩下蘋果公司,因此,臺積電已決議放緩其擴產(chǎn)進度,以確保產(chǎn)能不會因過度閑置而導(dǎo)致成本壓力。

據(jù)彭博社報道,ASML 新一代 EUV 光刻機每臺耗電約 1 百萬瓦,約為前幾代設(shè)備的 10 倍,預(yù)計 2025 年將占臺灣地區(qū)整體能源消耗的 12.5%,芯片行業(yè)可能成為減少全球碳排放的重要絆腳石。

不過針對外界質(zhì)疑發(fā)展先進制程,耗費不少電力,臺積電引述 2020 年工研院產(chǎn)業(yè)科技國際策略發(fā)展所(ISTI)模型推導(dǎo)分析結(jié)果,稱臺積電每使用 1 度生產(chǎn)用電,能為全球減省 4 度電。

臺積電表示,公司持續(xù)推進半導(dǎo)體高階制程技術(shù),生產(chǎn)更先進、更具能源效率及更環(huán)保的產(chǎn)品,此外,公司積極投入綠色制造,落實節(jié)能減碳相關(guān)作為,包括致力優(yōu)化制程能源使用效率,同時和機臺設(shè)備商合作開發(fā)新的節(jié)能行動方案。

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關(guān)鍵詞:芯片,臺積電,光刻機

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