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IT之家 8 月 23 日消息，在當(dāng)?shù)貢r(shí)間 22 日在馬來西亞檳城舉行的集體采訪中，英特爾邏輯開發(fā)副總裁 William Grimm 表示 Intel 4 制程（IT之家注：原 7nm）的良率高于預(yù)期，他對(duì)此充滿信心。
Intel 4 是英特爾工藝中首次應(yīng)用極紫外光（EUV）的工藝。根據(jù) IC Knowledge 提供的逆向工程數(shù)據(jù)，Intel 4 工藝的性能優(yōu)于臺(tái)積電 5nm，接近 3nm 工藝，但 William 堅(jiān)持“很難將 Intel 4 與其他代工廠的現(xiàn)有節(jié)點(diǎn)進(jìn)行比較，所以只是參考外部基準(zhǔn)測(cè)試執(zhí)行了自己的 PPA”。
“通過 EUV，我們可以控制工藝復(fù)雜性”，“我們成功收獲得了比預(yù)期更高的產(chǎn)量”，他說道。
William Grimm 介紹稱，Intel 4 節(jié)點(diǎn)是一個(gè)特別注重能源效率的工藝?！叭绻f Intel 7 工藝是專注于性能最大化的工藝，那么 Intel 4 則專注于提高能效”，“它更適合筆記本電腦等應(yīng)用”。
他還表示，“（EUV 產(chǎn)能）已經(jīng)有足夠的保障來滿足市場(chǎng)需求”，并且“未來幾年的計(jì)劃，比如 Intel 3 已經(jīng)確定了”。
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