感謝IT之家網(wǎng)友 溯波 的線索投遞！
IT之家 12 月 12 日消息，今天早些時候，紐約州長凱西?霍楚爾（Kathy Hochul ）宣布與 IBM、美光、應(yīng)用材料、東京電子（東京威力科創(chuàng)）等半導(dǎo)體巨頭達(dá)成合作，投資 100 億美元（IT之家備注：當(dāng)前約 718 億元人民幣）在紐約州 Albany NanoTech Complex 建設(shè)下一代 High-NA EUV 半導(dǎo)體研發(fā)中心。
根據(jù)聲明，負(fù)責(zé)協(xié)調(diào)該設(shè)施建設(shè)的非營利性機(jī)構(gòu) NY Creates 將利用 10 億美元州政府資金向 ASML 采購 TWINSCAN EXE:5200 光刻機(jī)。
紐約州表示，一旦機(jī)器安裝完畢，該項目及其合作伙伴將開始研究下一代芯片制造。官方聲明指出，該項目將創(chuàng)造 700 個工作崗位，并帶來至少 90 億美元的私人投資。
此外，官方還強(qiáng)調(diào)，這將是北美第一個也是唯一一個擁有 High-NA EUV 光刻系統(tǒng)的公有研發(fā)中心，將為開發(fā)和生產(chǎn) 2nm 節(jié)點甚至更先進(jìn)的芯片鋪平道路。
廣告聲明：文內(nèi)含有的對外跳轉(zhuǎn)鏈接（包括不限于超鏈接、二維碼、口令等形式），用于傳遞更多信息，節(jié)省甄選時間，結(jié)果僅供參考，IT之家所有文章均包含本聲明。