IT之家 1 月 28 日消息，據(jù)英國金融時(shí)報(bào)報(bào)道，負(fù)責(zé)監(jiān)督新型光刻機(jī)開發(fā)的佳能高管武石洋明 1 月 27 日接受采訪稱，采用納米壓印技術(shù)的佳能光刻設(shè)備 FPA-1200NZ2C 目標(biāo)今年或明年出貨。
佳能 2023 年 10 月公布 FPA-1200NZ2C 納米壓印光刻（NIL）半導(dǎo)體設(shè)備。佳能社長御手洗富士夫表示，納米壓印光刻技術(shù)的問世，為小型半導(dǎo)體制造商生產(chǎn)先進(jìn)芯片開辟了一條新的途徑。
佳能半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)務(wù)經(jīng)理巖本和德表示，納米壓印光刻是指將帶有半導(dǎo)體電路圖案的掩模壓印在晶圓上，只需一個(gè)印記，就可以在適當(dāng)?shù)奈恢眯纬蓮?fù)雜的 2D 或 3D 電路圖案，因此只需要不斷改進(jìn)掩模，甚至能生產(chǎn) 2nm 芯片。
IT之家去年 11 月報(bào)道，御手洗富士夫表示：“NIL 產(chǎn)品的價(jià)格比 ASML 的 EUV 少 1 位數(shù)”。
佳能與日本印刷綜合企業(yè)大日本印刷株式會社（Dai Nippon Printing Co.）以及存儲芯片制造商鎧俠控股（Kioxia Holdings Corp.）合作研究納米壓印技術(shù)已有近十年的時(shí)間。
與通過反射光工作的極紫外光刻技術(shù)不同，佳能研究的納米壓印技術(shù)是將電路圖案直接印在晶圓上，從而制造出據(jù)稱幾何形狀與最先進(jìn)節(jié)點(diǎn)相當(dāng)?shù)男酒俣纫枚唷?/p>
這種新設(shè)備有望讓芯片制造商降低對芯片代工廠的依賴，同時(shí)也讓臺積電和三星電子等芯片代工廠更有可能批量生產(chǎn)芯片。佳能表示，這種機(jī)器所需功率只有 EUV 同類產(chǎn)品的十分之一。
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