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英特爾再次確認未來 Intel 10A 節(jié)點,第二臺 High NA EUV 光刻機將至

2024/8/2 13:11:32 來源:IT之家 作者:溯波(實習) 責編:溯波

IT之家 8 月 2 日消息,英特爾 CEO 帕特?基辛格在 2024 財年第二財季財報公布后的投資者電話會議上再次確認了 Intel 10A 這一尚未正式官宣制程節(jié)點的存在。

他表示:

除了 Intel 18A 外我們還在推進 Intel 14A 和 Intel 10A 的開發(fā)。

……

隨著我們將 Intel 4 和 3 的產能轉移到愛爾蘭(的量產晶圓廠),我們的 TD(IT之家注:Technology Development,技術開發(fā))團隊也能更加專注于 18A、14A、10A 節(jié)點的工作。

英特爾官方首次提到 Intel 10A 制程是在今年 2 月 IFS Direct Connect 大會上的一次閉門活動中。當時展示的幻燈片截圖顯示,Intel 10A 有望從 2028 年開始貢獻產能:

 英特爾晶圓、先進封裝產能示意圖

根據現(xiàn)有制程規(guī)劃,Intel 10A 將成為 Intel 14A 后英特爾第二代引入 High NA EUV 光刻的先進工藝。

對于 Intel 14A,帕特?基辛格宣稱這一不早于 2025 年推出的工藝進展順利。

而在支持 Intel 14A、10A 兩代工藝的 ASML High NA EUV 光刻機上,繼英特爾今年 4 月完成全球首臺商用 High NA EUV 光刻機的組裝后,英特爾的第二臺 High NA EUV 光刻機也即將運抵俄勒岡州研發(fā)晶圓廠。

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關鍵詞:英特爾先進制程

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