英特爾再次確認(rèn)未來(lái) Intel 10A 節(jié)點(diǎn),第二臺(tái) High NA EUV 光刻機(jī)將至

2024/8/2 13:11:32 來(lái)源:IT之家 作者:溯波(實(shí)習(xí)) 責(zé)編:溯波

IT之家 8 月 2 日消息,英特爾 CEO 帕特?基辛格在 2024 財(cái)年第二財(cái)季財(cái)報(bào)公布后的投資者電話會(huì)議上再次確認(rèn)了 Intel 10A 這一尚未正式官宣制程節(jié)點(diǎn)的存在。

他表示:

除了 Intel 18A 外我們還在推進(jìn) Intel 14A 和 Intel 10A 的開(kāi)發(fā)。

……

隨著我們將 Intel 4 和 3 的產(chǎn)能轉(zhuǎn)移到愛(ài)爾蘭(的量產(chǎn)晶圓廠),我們的 TD(IT之家注:Technology Development,技術(shù)開(kāi)發(fā))團(tuán)隊(duì)也能更加專(zhuān)注于 18A、14A、10A 節(jié)點(diǎn)的工作。

英特爾官方首次提到 Intel 10A 制程是在今年 2 月 IFS Direct Connect 大會(huì)上的一次閉門(mén)活動(dòng)中。當(dāng)時(shí)展示的幻燈片截圖顯示,Intel 10A 有望從 2028 年開(kāi)始貢獻(xiàn)產(chǎn)能:

 英特爾晶圓、先進(jìn)封裝產(chǎn)能示意圖

根據(jù)現(xiàn)有制程規(guī)劃,Intel 10A 將成為 Intel 14A 后英特爾第二代引入 High NA EUV 光刻的先進(jìn)工藝。

對(duì)于 Intel 14A,帕特?基辛格宣稱(chēng)這一不早于 2025 年推出的工藝進(jìn)展順利。

而在支持 Intel 14A、10A 兩代工藝的 ASML High NA EUV 光刻機(jī)上,繼英特爾今年 4 月完成全球首臺(tái)商用 High NA EUV 光刻機(jī)的組裝后,英特爾的第二臺(tái) High NA EUV 光刻機(jī)也即將運(yùn)抵俄勒岡州研發(fā)晶圓廠。

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