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SK 海力士確認 1c nm 工藝將用于 HBM、LPDDR6、GDDR7 等 DRAM 內(nèi)存產(chǎn)品

2024/8/29 16:25:06 來源:IT之家 作者:溯波(實習(xí)) 責(zé)編:溯波

IT之家 8 月 29 日消息,SK 海力士今日宣布在業(yè)界率先成功開發(fā)第六代 10 納米級(1c nm)DDR5 DRAM 內(nèi)存的同時,也表示 1c nm 工藝將用于多款其它 DRAM 內(nèi)存產(chǎn)品。

SK 海力士 DRAM 開發(fā)擔(dān)當(dāng)副社長金鍾煥在新聞稿中表示:

1c 工藝技術(shù)兼?zhèn)渲罡咝阅芎统杀靖偁幜?,公司將其?yīng)用于新一代 HBM、LPDDR6、GDDR7 等最先進 DRAM 主力產(chǎn)品群,由此為客戶提供差別化的價值。

今后公司也將堅守 DRAM 市場的領(lǐng)導(dǎo)力,鞏固最受客戶信賴的 AI 用存儲器解決方案企業(yè)的地位。

SK海力士1cnm DDR5內(nèi)存

IT之家注意到,金鍾煥在發(fā)言中為采用 1c nm 制程的 LPDDR 與 GDDR 指定了產(chǎn)品世代,但并未在 HBM 產(chǎn)品上提到具體世代。

根據(jù)此前報道,SK 海力士的 HBM4E 內(nèi)存有望采用 1c nm 制程的 32Gb DRAM 裸片,此外 SK 海力士內(nèi)部也曾有在 HBM4 產(chǎn)品中就導(dǎo)入 1c nm DRAM 的聲音。

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關(guān)鍵詞:內(nèi)存,DRAM,SK海力士

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