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消息稱三星電子、SK 海力士堆疊式移動(dòng)內(nèi)存 2026 年后商業(yè)化

2024/9/3 11:29:24 來源:IT之家 作者:溯波(實(shí)習(xí)) 責(zé)編:溯波

IT之家 9 月 3 日消息,韓媒 etnews 當(dāng)?shù)貢r(shí)間昨日報(bào)道稱,三星電子和 SK 海力士的“類 HBM 式”堆疊結(jié)構(gòu)移動(dòng)內(nèi)存產(chǎn)品將在 2026 年后實(shí)現(xiàn)商業(yè)化。

消息人士表示這兩大韓國內(nèi)存巨頭將堆疊式移動(dòng)內(nèi)存視為未來重要收入來源,計(jì)劃將“類 HBM 內(nèi)存”擴(kuò)展到智能手機(jī)、平板電腦和筆記本電腦中,為端側(cè) AI 提供動(dòng)力。

綜合IT之家此前報(bào)道,三星電子的此類產(chǎn)品叫做 LP Wide I/O 內(nèi)存,SK 海力士則將這方面技術(shù)稱為 VFO。兩家企業(yè)使用了大致相同的技術(shù)路線,即將扇出封裝和垂直通道結(jié)合在一起。

三星電子的 LP Wide I/O 內(nèi)存位寬達(dá) 512bit,是現(xiàn)有 LPDDR 內(nèi)存的 8 倍,較傳統(tǒng)引線鍵合擁有 8 倍 I/O 密度和 2.6 倍的 I/O 帶寬。該內(nèi)存將于 2025 年一季度技術(shù)就緒,2025 下半年至 2026 年中量產(chǎn)就緒。

三星相關(guān)技術(shù)介紹

SK 海力士的 VFO 技術(shù)驗(yàn)證樣品將導(dǎo)線長度縮短至傳統(tǒng)內(nèi)存的不到 1/4,能效也提升了 4.9%。雖然該方案帶來了額外 1.4% 的散熱量,但封裝厚度減少了 27%。

SK海力士相關(guān)技術(shù)介紹

報(bào)道指出,關(guān)于這些堆疊式移動(dòng)內(nèi)存如何同處理器集成尚無定論,討論中的方案包括類似 HBM 的 2.5D 封裝或 3D 垂直堆疊。

半導(dǎo)體封裝行業(yè)人士表示,移動(dòng)處理器如何設(shè)計(jì)與布置將影響堆疊式移動(dòng)內(nèi)存的配置與連接方式,這意味著新一代移動(dòng)內(nèi)存將根據(jù)合作伙伴的需求定制供應(yīng),徹底改變移動(dòng) DRAM 市場格局。

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關(guān)鍵詞:內(nèi)存,三星電子,DRAM,SK海力士

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