IT之家 9 月 3 日消息，日經報道稱，英特爾將與日本產業(yè)技術綜合研究所（AIST）在日本建立芯片研發(fā)基地，新設施將在三到五年內建成，配備極紫外線光刻（EUV）設備。
設備制造商和材料公司將付費使用該設施進行原型設計和測試。據(jù)介紹，這將是日本第一個行業(yè)成員能夠共同使用極紫外光刻設備的中心。
IT之家查詢獲悉，產業(yè)技術綜合研究所隸屬經濟產業(yè)省，是日本一家設法使用集成科學和工程知識來解決日本社會和經濟發(fā)展需要的研究機構，總部位于東京，2001 年成為獨立行政機構的一個新設計的法律機構。
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