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ASML 推出 High NA EUV 光刻機 TWINSCAN EXE:5000 樂高套裝

2024/12/2 11:25:42 來源:IT之家 作者:溯波(實習(xí)) 責(zé)編:溯波

IT之家 12 月 2 日消息,ASML 在官網(wǎng)紀(jì)念品商城上架了一款特殊的產(chǎn)品:世界首型 High NA EUV 光刻系統(tǒng) TWINSCAN EXE:5000 的樂高模型套裝。

TWINSCAN EXE:5000 光刻機是首款采用 0.55NA 數(shù)值孔徑的光刻機,其分辨率達 8nm,成像對比度較此前的 NXE 系列 0.33NA EUV 系統(tǒng)高 40%,支持 2nm 邏輯節(jié)點圖案化,單價達 3.5 億歐元(IT之家備注:當(dāng)前約 26.8 億元人民幣)。

▲ 左側(cè)為實物,右側(cè)為樂高模型

▲ 模型另一側(cè)

▲ 桌面效果

該樂高套裝由 ASML 開發(fā)人員 —— 同樣也是樂高愛好者 —— Rick Lenssen 設(shè)計,擁有 851 個部件,寬高深三維  352×99×64 mm,定價 227.95 美元(當(dāng)前約 1653 元人民幣)。

Rick Lenssen 此前曾耗時合計 2.5 年(1.5 年設(shè)計藍(lán)圖、1 年實際組裝)用樂高積木復(fù)現(xiàn)了 ASML 的費爾德霍芬主園區(qū),還推出過多款 ASML 主題的樂高套裝產(chǎn)品。

▲ ASML 費爾德霍芬主園區(qū)。
圖源 Rick Lenssen 個人網(wǎng)站,下同

▲ ASML 老 Building (1)

▲ ASML 費爾德霍芬園區(qū)部分建筑

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關(guān)鍵詞:ASML,High NA,樂高

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