IT之家 1 月 31 日消息，據(jù)外媒 Tom's Hardware 報道，日本先進半導體制造商 Rapidus 首席執(zhí)行官小池淳義在接受媒體采訪時表示，Rapidus 計劃在其位于日本北海道千歲市的創(chuàng)新集成制造工廠（IIM-1）和未來的 IIM-2 共安裝 10 臺 EUV 光刻機，不過其沒有透露具體的安裝執(zhí)行時間表。
參考IT之家此前報道，Rapidus 在去年 12 月購入了 ASML 的“TWINSCAN NXE:3800E”EUV 光刻機系統(tǒng)，暫時也不清楚除了 TWINSCAN NXE:3800E 系統(tǒng)外，是否 Rapidus 還會引入其他型號的光刻設備。
此外，Rapidus 先前還聲稱與美國芯片巨頭博通（Broadcom）合作，力爭量產(chǎn) 2 納米尖端芯片，計劃今年 6 月向博通提供試產(chǎn)芯片。
除了博通，Preferred Networks 也委托 Rapidus 代工 2 納米芯片，用于生成式 AI 處理；此外還有消息稱 Rapidus 正與 30 至 40 家企業(yè)洽談代工業(yè)務，目標是承接定制化的少量多品種半導體訂單，與臺積電的大規(guī)模生產(chǎn)模式形成差異化競爭。
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