IT之家 2 月 1 日消息，ASML 總裁兼首席執(zhí)行官 Christophe Fouquet 在上月末的公司 2024 年第四季度財報電話會議上表示，該企業(yè)的首臺第二代 0.55 (High) NA EUV 光刻機 TWINSCAN EXE:5200 即將以“早期工具”的身份發(fā)貨，用于技術(shù)成熟度驗證。
EXE:5200 是現(xiàn)有初代 High NA EUV 光刻機 EXE:5000 的改進(jìn)款，根據(jù) Christophe Fouquet 的說法，該型號“更適合大批量生產(chǎn)”。而 EXE:5000 作為初期版本主要用于 High NA EUV 光刻技術(shù)的開發(fā)。
從 ASML 光刻系統(tǒng)的迭代規(guī)律來看，EXE:5200 預(yù)計將擁有更高的晶圓吞吐量（IT之家注：EXE:5000 為每小時 185 片以上），同時支持更為精細(xì)的后 2nm 邏輯半導(dǎo)體工藝。
Christophe Fouquet 還提到，其 0.33 (Low) NA EUV 光刻機的最新型號 NXE:3800E 已在工廠實現(xiàn)每小時 220 片的設(shè)計晶圓吞吐量，較初期的 185 片進(jìn)一步提升，比前一代的 NXE:3600D 已高出 37.5%，充分發(fā)揮了結(jié)構(gòu)改進(jìn)帶來的優(yōu)勢。
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