IT之家 2 月 19 日消息，尼康在其 2025 財(cái)年第三財(cái)季（截至 2024 年 12 月 31 日）財(cái)報(bào)的演示文稿中透露，該企業(yè)正同合作伙伴一道開發(fā)一款兼容 ASML 主導(dǎo)的浸沒式 ArF（IT之家注：也稱 ArFi）光刻生態(tài)的新型光刻機(jī)產(chǎn)品，目標(biāo) 2028 財(cái)年（2027 年 4 月~2028 年 3 月）推出。
在浸沒式 ArF 光刻領(lǐng)域，ASML 目前憑借其成熟的 TWINSCAN 雙工件臺(tái)技術(shù)牢牢掌握著九成以上的光刻機(jī)市場(chǎng)份額。而該市場(chǎng)僅有的另一位參與者尼康目標(biāo)是將占比提升到與干式 ArF 領(lǐng)域相當(dāng)?shù)母咚?/strong>。
尼康認(rèn)為隨著 DRAM 內(nèi)存和邏輯半導(dǎo)體向三維發(fā)展，浸沒式 ArF 光刻的需求也將提升。為從 ASML 手中奪下更多的 ArFi 訂單，尼康計(jì)劃使其正開發(fā)浸沒式 ArF 光刻機(jī)與 ASML 的同類設(shè)備生態(tài)兼容，方便原計(jì)劃采用 ASML 光刻機(jī)的用戶遷移至尼康平臺(tái)。
此外，尼康表示其新一代浸沒式 ArF 光刻機(jī)將采用新的鏡頭和工件臺(tái)，并具備尺寸緊湊、易于維護(hù)的優(yōu)勢(shì)。而再下一代產(chǎn)品的開發(fā)預(yù)計(jì)在 2030 年后啟動(dòng)。
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