IT之家 3 月 11 日消息，光刻設備巨頭 ASML 當地時間今日宣布同比利時 imec 微電子研究中心簽署了一項新的 5 年期戰(zhàn)略合作協(xié)議。這對長期伙伴將在先進工藝和可持續(xù)發(fā)展領域發(fā)揮各自的知識和專長。
在半導體工藝方面，imec 牽頭建設的后 2nm 制程前沿節(jié)點 SoC 中試線 NanoIC 將導入包括 High NA EUV 光刻機在內的一系列 ASML 設備。雙方還將在硅光子學、存儲和先進封裝領域展開合作。
此外，ASML 將為 imec 探索環(huán)境和社會效益的創(chuàng)新想法和活動提供資金支持。
ASML 總裁兼首席執(zhí)行官 Christophe Fouquet 表示：
這項協(xié)議標志著 ASML 和 imec 之間的長期合作邁出了新的一步。它標志著我們共同為半導體行業(yè)開發(fā)解決方案的雄心壯志，也符合我們投資技術和創(chuàng)新以造福全社會的戰(zhàn)略。
imec 總裁兼首席執(zhí)行官 Luc Van den Hove 表示：
我們很高興能繼續(xù)與 ASML 保持長期獨特的合作關系，30 多年來，我們?yōu)闃I(yè)界提供了最先進的圖案化解決方案。
ASML 完整產品組合的加入將使我們中試線的能力進一步增大和成熟，為整個半導體生態(tài)系統(tǒng)提供最先進的研發(fā)技術，以應對 AI 驅動的技術進步所帶來的挑戰(zhàn)。
由于 imec 非常重視可持續(xù)創(chuàng)新，因此將這一事項明確納入我們的合作伙伴關系是一個很好的補充。
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