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日本境內(nèi)至少有三個(gè)項(xiàng)目將引入 ASML 提供的 EUV 光刻設(shè)備，而 DUV 機(jī)臺(tái)持有規(guī)模更大。

臺(tái)積電計(jì)劃縮短美國(guó)晶圓廠建設(shè)周期至兩年，但設(shè)備供應(yīng)問(wèn)題可能導(dǎo)致技術(shù)導(dǎo)入滯后中國(guó)臺(tái)灣1-2個(gè)節(jié)點(diǎn)。鳳凰城Fab 21一期2025年投產(chǎn)，二期2026年試產(chǎn)，三期2nm工藝或2029年量產(chǎn)。

從荷蘭埃因霍溫的一個(gè)漏雨棚屋起步，ASML如今已成為全球光刻機(jī)領(lǐng)域的絕對(duì)領(lǐng)導(dǎo)者。從PAS 2000到Twinscan NXE:3100，ASML不斷突破技術(shù)極限，助力臺(tái)積電、英特爾、三星等巨頭生產(chǎn)最先進(jìn)的半導(dǎo)體產(chǎn)品。去年，ASML收入接近310億美元，全球擁有超過(guò)60個(gè)運(yùn)營(yíng)地點(diǎn)和4.4萬(wàn)名員工。#ASML# #光刻機(jī)#

三星電子近日引入ASML High NA EUV光刻機(jī)，旨在提升2納米及以下制程的競(jìng)爭(zhēng)力。該設(shè)備價(jià)值5000億韓元，是全球唯一能提供此類設(shè)備的供應(yīng)商。三星計(jì)劃構(gòu)建2納米工藝生態(tài)系統(tǒng)，加速商業(yè)化進(jìn)程。#半導(dǎo)體# #三星# #ASML#

imec 牽頭建設(shè)的后 2nm 制程中試線 NanoIC 將導(dǎo)入包括 High NA EUV 光刻機(jī)在內(nèi)的一系列 ASML 設(shè)備。

據(jù)證券時(shí)報(bào)報(bào)道，對(duì)于近日媒體對(duì)光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）今年將在北京新建維修中心的報(bào)道，3 月 6 日晚間，ASML 相關(guān)負(fù)責(zé)人回應(yīng)稱：“我們不是要在 2025 年新建一個(gè)北京本地維修中心，而是今年會(huì)在原有基礎(chǔ)上進(jìn)行升級(jí)、擴(kuò)建。”

“2025 年，我們計(jì)劃在北京（中國(guó)）開設(shè)一個(gè)新的再利用和維修中心，這標(biāo)志著再利用制造業(yè)的又一個(gè)重要進(jìn)步?！?/div>

在阿斯麥（ASML）今日發(fā)布的“攜手推進(jìn)技術(shù)向新”2024年度報(bào)告中，CEO克里斯托弗·福凱（Christophe Fouquet）表示，公司的當(dāng)務(wù)之急是繼續(xù)與客戶的路線圖保持一致。

英特爾宣布已開始使用ASML的兩臺(tái)先進(jìn)光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)，這些新型設(shè)備在可靠性上遠(yuǎn)超舊款，僅需一次曝光即可完成舊款機(jī)器三次曝光的工作。英特爾計(jì)劃利用這些高NA光刻機(jī)開發(fā)18A制造技術(shù)，預(yù)計(jì)今年晚些時(shí)候投入大規(guī)模生產(chǎn)。#光刻機(jī)# #英特爾# #ASML#

EXE:5200 是現(xiàn)有初代 High NA EUV 光刻機(jī) EXE:5000 的改進(jìn)款，根據(jù) ASML 方法的說(shuō)法“更適合大批量生產(chǎn)”。

荷蘭光刻機(jī)巨頭 ASML 今日發(fā)布了最新的 2024 年第四季度和全年業(yè)績(jī)。ASML 去年交付了三套 High-NA EUV 光刻系統(tǒng)，第三臺(tái)于第四季度交付。

荷蘭光刻機(jī)制造商 ASML Holding NV 的首席執(zhí)行官克里斯托夫?福凱（Christophe Fouquet）在周三的新聞發(fā)布會(huì)上表示，對(duì)于 ASML 而言，任何能夠降低成本的消息都是好消息。此前，中國(guó)初創(chuàng)公司 DeepSeek 推出的低成本聊天機(jī)器人在市場(chǎng)上引發(fā)了波動(dòng)，但福凱認(rèn)為，這反而為 ASML 帶來(lái)了更多機(jī)遇。

ASML 第四季度收入創(chuàng)下新紀(jì)錄，總凈銷售額達(dá) 93 億歐元，毛利率為 51.7%，均高于預(yù)期

彭博社今日?qǐng)?bào)道稱，中國(guó)人工智能初創(chuàng)公司 DeepSeek 本周一引發(fā)了全球科技股的震蕩，其最新發(fā)布的 AI 模型因其成本效益高且能在較低端芯片上運(yùn)行，引發(fā)了市場(chǎng)對(duì)英偉達(dá)等公司高估值的質(zhì)疑。

NXE:3800E 是 ASML EXE 系列 0.33 (Low) NA EUV 光刻機(jī)的最新型號(hào)，能滿足 Rapidus 首代量產(chǎn)工藝 2nm 的制造需求。

該樂(lè)高模型套裝由 ASML 開發(fā)人員、樂(lè)高愛好者 Rick Lenssen 設(shè)計(jì)，擁有 851 個(gè)部件，定價(jià) 227.95 美元。

除 Rapidus 外，美光日本廣島工廠和臺(tái)積電控股子公司 JASM 的第二晶圓廠也將陸續(xù)導(dǎo)入 EUV 光刻設(shè)備。

歐洲最大的科技公司、計(jì)算機(jī)芯片設(shè)備制造商 ASML 周四表示，預(yù)計(jì)未來(lái)五年銷售額將增長(zhǎng) 8% 至 14%，因?yàn)槿斯ぶ悄艿呐畈l(fā)展推動(dòng)了對(duì)其最先進(jìn)工具的強(qiáng)勁需求。

11 月 8 日上午 ASML 內(nèi)部網(wǎng)絡(luò)部分服務(wù)出現(xiàn)故障，影響 ASML 在全球范圍的業(yè)務(wù)運(yùn)營(yíng)。

目前有 31 家晶圓廠采用 EUV 光刻，到 2030 年將增長(zhǎng)至 59 家，而 EUV 光刻設(shè)備的數(shù)量增幅則將超過(guò) 100%。