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IT之家 12 月 12 日消息，當?shù)貢r間周二，三星電子董事長李在镕攜手 SK 集團董事長崔泰元訪問 ASML 荷蘭總部，并與 ASML 以及韓國總統(tǒng)尹錫悅就半導體芯片聯(lián)盟事宜進行探討。
今日晚間，ASML 宣布與三星電子簽署備忘錄，將共同投資 1 萬億韓元（IT之家備注：當前約 54.5 億元人民幣）在韓國建立研究中心，并將利用下一代極紫外（EUV）光刻機研究超精細半導體制造工藝。
同時，ASML 還宣布與 SK 海力士簽署 ESG 諒解備忘錄，就環(huán)境、社會和公司治理項目展開合作。
值得一提的是，上個月初還有消息稱三星在五年內(nèi)從 ASML 采購 50 套設備，每臺單價約為 2000 億韓元，總價值可達 10 萬億韓元（當前約 545 億元人民幣）。
三星電子于去年 6 月推出了全球首個采用全柵極（GAA）技術的 3nm 代工技術，因此該公司一直在努力確保采購更多 EUV 光刻設備，目標是在明年上半年進入 3nm 世代的第二代工藝，在 2025 年進入 2nm 工藝，在 2027 年進入 1.4nm 工藝。
正因如此，李在镕董事長去年 6 月訪問了 ASML 總部，與首席執(zhí)行官 Peter Bennink 討論了 EUV 采購問題，并在同年 11 月訪問韓國期間與 Bennink 進行了進一步會談。鑒于 EUV 的交付周期（從下單到收貨）至少需要一年，這些會議看起來確實取得了實際成果。
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