設(shè)置
  • 日夜間
    隨系統(tǒng)
    淺色
    深色
  • 主題色

ASML 新款 NXE:3800E EUV 光刻機(jī)引入部分 High-NA 機(jī)型技術(shù),晶圓吞吐量提升近 22%

2024/3/27 12:01:10 來(lái)源:IT之家 作者:溯波(實(shí)習(xí)) 責(zé)編:汪淼

IT之家 3 月 27 日消息,據(jù)荷蘭媒體 Bits&Chips 報(bào)道,ASML 官方確認(rèn)新款 0.33NA EUV 光刻機(jī) ——NXE:3800E 引入了部分 High-NA EUV 光刻機(jī)的技術(shù),運(yùn)行效率得以提升。

根據(jù)IT之家之前報(bào)道,NXE:3800E 光刻機(jī)已于本月完成安裝,可實(shí)現(xiàn) 195 片晶圓的每小時(shí)吞吐量,相較以往機(jī)型的 160 片提升近 22%。

下一代光刻技術(shù) High-NA(高數(shù)值孔徑) EUV 采用了更寬的光錐,這意味著其在 EUV 反射鏡上的撞擊角度更寬,會(huì)導(dǎo)致影響晶圓吞吐量的光損失。因此 ASML 提高了光學(xué)系統(tǒng)的放大倍率,從而將光線入射角調(diào)整回合適大小。

但在掩膜尺寸不變的情況下,增加光學(xué)系統(tǒng)放大倍率本身也會(huì)因?yàn)槠毓鈭?chǎng)的減少影響晶圓吞吐量。因此 ASML 僅在一個(gè)方向上將放大倍數(shù)從 4 倍提升至 8 倍,這使得曝光場(chǎng)僅用減小一半。

而為了進(jìn)一步降低曝光時(shí)間,提升吞吐量,有必要提升光刻機(jī)載物臺(tái)的運(yùn)動(dòng)速率。ASML 工程師就此開(kāi)發(fā)了同時(shí)兼容現(xiàn)有 0.33NA 數(shù)值孔徑系統(tǒng)的新款快速載物臺(tái)運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)。

ASML 公司

▲ 圖源 ASML 官方

對(duì)于 NXE:3800E 而言,其光學(xué)原件同之前的 3600D 機(jī)型相同,僅是配備了更高效的 EUV 光源,所以其吞吐量收益主要來(lái)自每次曝光之間的晶圓移動(dòng)加速。與 3600D 相比,3800E 的載物臺(tái)移動(dòng)速度提升至 2 倍,曝光步驟總時(shí)長(zhǎng)也大約減少了一半

更快的運(yùn)行速度也帶來(lái)了能效的提升,ASML 的發(fā)言人表示,NXE:3800E 整體節(jié)省了約 20%~25% 的能源。

廣告聲明:文內(nèi)含有的對(duì)外跳轉(zhuǎn)鏈接(包括不限于超鏈接、二維碼、口令等形式),用于傳遞更多信息,節(jié)省甄選時(shí)間,結(jié)果僅供參考,IT之家所有文章均包含本聲明。

相關(guān)文章

關(guān)鍵詞:ASML光刻機(jī)

軟媒旗下網(wǎng)站: IT之家 最會(huì)買(mǎi) - 返利返現(xiàn)優(yōu)惠券 iPhone之家 Win7之家 Win10之家 Win11之家

軟媒旗下軟件: 軟媒手機(jī)APP應(yīng)用 魔方 最會(huì)買(mǎi) 要知