IT之家 12 月 19 日消息，日本先進(jìn)邏輯半導(dǎo)體制造商 Rapidus 宣布，其購入的首臺 ASML TWINSCAN NXE:3800E 光刻機(jī)已于當(dāng)?shù)貢r間昨日在其北海道千歲市 IIM-1 晶圓廠完成交付并啟動安裝。這也是日本境內(nèi)首次引入量產(chǎn)用 EUV 光刻設(shè)備。
Rapidus 首席執(zhí)行官、日本政府代表、北海道及千歲市地方政府代表、ASML 高管、荷蘭駐日本大使等相關(guān)人士出席了在北海道新千歲機(jī)場舉行的紀(jì)念儀式。
NXE:3800E 是 ASML EXE 系列 0.33 (Low) NA EUV 光刻機(jī)的最新型號，能滿足 Rapidus 首代量產(chǎn)工藝 2nm 的制造需求。該光刻機(jī)與 0.55 (High) NA EXE 平臺共享部分組件，晶圓吞吐量較前款 NXE:3600D 提升 37.5%。
除核心的 EUV 光刻機(jī)外，Rapidus 還將在 IIM-1 晶圓廠安裝一系列配套先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備以及全自動材料處理系統(tǒng)，以實(shí)現(xiàn) 2nmz 制程 GAA（IT之家備注：全環(huán)繞柵極）結(jié)構(gòu)半導(dǎo)體的生產(chǎn)。
Rapidus 再次確認(rèn) IIM-1 晶圓廠將于 2025 年 4 月啟動試產(chǎn)，且該晶圓廠所有半導(dǎo)體制造設(shè)備均將采用“單晶圓工藝”，Rapidus 將在該模式下構(gòu)建名為 RUMS（快速和統(tǒng)一制造服務(wù)）的新型半導(dǎo)體代工模式。
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